IC载板在线垂直式PLASMA

技术原理
       等离子体处理：通过高频电源激发气体(如氧气、氮气、氩气等)产生高能等离子体， 利用其中的活性粒子(离子、电子、自由基)与IC载板表面发生物理或化学反应。
      
      在线垂直式设计:基板在框架式传送带放入等离子腔体内处理，实现自动化流水线作业，适合大批量生产,框架传送设计支持不间断处理，产能显著高于批次式设备。